毒物一覧

毒物及び劇物取締法第2条第1項で定める毒物

(2011年12月14日現在)

 

法 律 上 の 名 称
1 エチルパラニトロフエニルチオノベンゼンホスホネイト(別名 EPN)
2 黄燐
3 オクタクロルテトラヒドロメタノフタラン
4 オクタメチルピロホスホルアミド(別名シユラーダン)
5 クラーレ
6 四アルキル鉛
7 シアン化水素
8 シアン化ナトリウム
9 ジエチルパラニトロフエニルチオホスフエイト(別名パラチオン)
10 ジニトロクレゾール
11 2,4-ジニトロ-6-(1-メチルプロピル)-フエノール
12 ジメチルエチルメルカプトエチルチオホスフエイト(別名メチルジメトン)
13 ジメチル-(ジエチルアミド-1-クロルクロトニル)-ホスフエイト
14 ジメチルパラニトロフエニルチオホスフエイト(別名メチルパラチオン)
15 水銀
16 セレン
17 チオセミカルバジド
18 テトラエチルピロホスフエイト(別名TEPP)
19 ニコチン
20 ニツケルカルボニル
21 砒素
22 弗化水素
23 ヘキサクロルエポキシオクタヒドロエンドエンドジメタノナフタリン(別名 エンドリン)
24 ヘキサクロルヘキサヒドロメタノベンゾジオキサチエピンオキサイド
25 モノフルオール酢酸
26 モノフルオール酢酸アミド
27 硫化燐
28 前各号に掲げる物のほか、前各号に掲げる物を含有する製剤その他の毒性を有する物であって政令で定めるもの

 

毒物及び劇物指定令第1条で定める毒物

毒物及び劇物取締法別表第一第28号の規定に基づき、毒物に指定されていものは次のとおりです。
(2017年6月14日現在)

 

 1 アジ化ナトリウム及びこれを含有する製剤。ただし、アジ化ナトリウム0.1%以下を含有するものを除く。
1の2 亜硝酸イソプロピル及びこれを含有する製剤
1の3 亜硝酸ブチル及びこれを含有する製剤
1の4 アバメクチン及びこれを含有する製剤。ただし、アバメクチン1.8%以下を含有するものを除く。
1の5 3-アミノ-1-プロペン及びこれを含有する製剤
1の6 アリルアルコール及びこれを含有する製剤
1の7 アルカノールアンモニウム-2,4-ジニトロ-6-(1-メチルプロピル)-フェノラート及びこれを含有する製剤。ただし、トリエタノールアンモニウム-2,4-ジニトロ-6-(1-メチルプロピル)-フェノラート及びこれを含有する製剤を除く。
1の8 O-エチル-O-(2-イソプロポキシカルボニルフェニル)-N-イソプロピルチオホスホルアミド(別名イソフェンホス)及びこれを含有する製剤。ただし、O-エチル-O-(2-イソプロポキシカルボニルフェニル)-N-イソプロピルチオホスホルアミド5%以下を含有するものを除く。
1の9 O-エチル=S,S-ジプロピル=ホスホロジチオアート(別名エトプロホス)及びこれを含有する製剤。ただし、O-エチル=S,S-ジプロピル=ホスホロジチオアート5%以下を含有するものを除く。
 2 エチルパラニトロフェニルチオノベンゼンホスホネイト(別名EPN)を含有する製剤。ただし、エチルパラニトロフェニルチオノベンゼンホスホネイト1.5%以下を含有するものを除く。
2の2 N-エチル-メチル-(2-クロル-4-メチルメルカプトフェニル)-チオホスホルアミド及びこれを含有する製剤
2の3 塩化ベンゼンスルホニル及びこれを含有する製剤
2の4 塩化ホスホリル及びこれを含有する製剤
 3 黄燐を含有する製剤
 4 オクタクロルテトラヒドロメタノフタランを含有する製剤
 5 オクタメチルピロホスホルアミド(別名シュラーダン)を含有する製剤
5の2 オルトケイ酸テトラメチル及びこれを含有する製剤
 6 クラーレを含有する製剤
6の2 クロトンアルデヒド及びこれを含有する製剤
6の3 クロロアセトアルデヒド及びこれを含有する製剤
6の4 クロロ酢酸メチル及びこれを含有する製剤
6の5 1-クロロ-2,4-ジニトロベンゼン及びこれを含有する製剤
6の6 クロロ炭酸フエニルエステル及びこれを含有する製剤
6の7 3-クロロ-1,2-プロパンジオール及びこれを含有する製剤
6の8 (クロロメチル)ベンゼン及びこれを含有する製剤
6の9 五塩化燐及びこれを含有する製剤
6の10 三塩化硼素及びこれを含有する製剤
6の11 三塩化燐及びこれを含有する製剤
6の12 三弗化硼素及びこれを含有する製剤
6の13 三弗化燐及びこれを含有する製剤
6の14 ジアセトキシプロペン及びこれを含有する製剤
 7 四アルキル鉛を含有する製剤
 8 無機シアン化合物及びこれを含有する製剤。ただし、次に掲げるものを除く。

  1. 紺青及びこれを含有する製剤
  2. フェリシアン塩及びこれを含有する製剤
  3. フェロシアン塩及びこれを含有する製剤
 9 ジエチル-S-(エチルチオエチル)-ジチオホスフェイト及びこれを含有する製剤。ただし、ジエチル-S-(エチルチオエチル)-ジチオホスフェイト5%以下を含有するものを除く。
9の2 ジエチル-S-(2-クロル-1-フタルイミドエチル)-ジチオホスフェイト及びこれを含有する製剤
9の3 ジエチル-(1,3-ジチオシクロペンチリデン)-チオホスホルアミド及びこれを含有する製剤。ただし、ジエチル-(1,3-ジチオシクロペンチリデン)-チオホスホルアミド5%以下を含有するものを除く。
9の4 ジエチルパラジメチルアミノスルホニルフェニルチオホスフェイト及びこれを含有する製剤
 10 ジエチルパラニトロフェニルチオホスフェイト(別名パラチオン)を含有する製剤
10の2 ジエチル-4-メチルスルフィニルフェニル-チオホスフェイト及びこれを含有する製剤。ただし、ジエチル-4-メチルスルフィニルフェニル-チオホスフェイト3%以下を含有するものを除く。
10の3 1,3-ジクロロプロパン-2-オール及びこれを含有する製剤
10の4 2,3-ジシアノ-1,4-ジチアアントラキノン(別名ジチアノン)及びこれを含有する製剤。ただし、2,3-ジシアノ-1,4-ジチアアントラキノン50%以下を含有するものを除く。
 11 ジニトロクレゾールを含有する製剤
 12 ジニトロクレゾール塩類及びこれを含有する製剤
12の2 ジニトロフェノール及びこれを含有する製剤
 13 2,4-ジニトロ-6-(1-メチルプロピル)-フェノールを含有する製剤。ただし、2,4-ジニトロ-6-(1-メチルプロピル)-フェノール2%以下を含有するものを除く。
13の2 2-ジフェニルアセチル-1,3-インダンジオン及びこれを含有する製剤。ただし、2-ジフェニルアセチル-1,3-インダンジオン0.005%以下を含有するものを除く。
13の3 四弗化硫黄及びこれを含有する製剤
13の4 ジボラン及びこれを含有する製剤
13の5 ジメチル-(イソプロピルチオエチル)-ジチオホスフェイト及びこれを含有する製剤。ただし、ジメチル-(イソプロピルチオエチル)-ジチオホスフェイト4%以下を含有するものを除く。
 14 ジメチルエチルメルカプトエチルチオホスフェイト(別名メチルジメトン)を含有する製剤
 15 ジメチル-(ジエチルアミド-1-クロルクロトニル)-ホスフェイトを含有する製剤
15の2 1,1′-ジメチル-4,4′-ジピリジニウムヒドロキシド、その塩類及びこれらのいずれかを含有する製剤
 16 ジメチルパラニトロフェニルチオホスフェイト(別名メチルパラチオン)を含有する製剤
16の2 1,1-ジメチルヒドラジン及びこれを含有する製剤
16の3 2,2-ジメチルプロパノイルクロライド(別名トリメチルアセチルクロライド)及びこれを含有する製剤
16の4 2,2-ジメチル-1,3-ベンゾジオキソール-4-イル-N-メチルカルバマート(別名ベンダイオカルブ)及びこれを含有する製剤。ただし、2,2-ジメチル-1,3-ベンゾジオキソール-4-イル-N-メチルカルバマート5%以下を含有するものを除く。
 17 水銀化合物及びこれを含有する製剤。ただし、次に掲げるものを除く。

  1. アミノ塩化第二水銀及びこれを含有する製剤
  2. 塩化第一水銀及びこれを含有する製剤
  3. オレイン酸水銀及びこれを含有する製剤
  4. 酸化水銀5%以下を含有する製剤
  5. 沃化第一水銀及びこれを含有する製剤
  6. 雷酸第二水銀及びこれを含有する製剤
  7. 硫化第二水銀及びこれを含有する製剤
17の2 ストリキニーネ、その塩類及びこれらのいずれかを含有する製剤
 18 セレン化合物及びこれを含有する製剤。ただし、次に掲げるものを除く。

  1. 亜セレン酸0.0082%以下を含有する製剤
  2. 亜セレン酸ナトリウム0.00011%以下を含有する製剤
  3. 硫黄、カドミウム及びセレンから成る焼結した物質並びにこれを含有する製剤
  4. ゲルマニウム、セレン及び砒素から成るガラス状態の物質並びにこれを含有する製剤
  5. セレン酸ナトリウム0.00012%以下を含有する製剤
 19 テトラエチルピロホスフェイト(別名TEPP)を含有する製剤
19の2 2,3,5,6-テトラフルオロ-4-メチルベンジル=(Z)-(1RS,3RS)-3-(2-クロロ-3,3,3-トリフルオロ-1-プロペニル)-2,2-ジメチルシクロプロパンカルボキシラート(別名テフルトリン)及びこれを含有する製剤。ただし、2,3,5,6-テトラフルオロ-4-メチルベンジル=(Z)-(1RS,3RS)-3-(2-クロロ-3,3,3-トリフルオロ-1-プロペニル)-2,2-ジメチルシクロプロパンカルボキシラート0.5%以下を含有するものを除く。
19の3 テトラメチルアンモニウム=ヒドロキシド及びこれを含有する製剤
19の4 1-ドデシルグアニジニウム=アセタート(別名ドジン)及びこれを含有する製剤。ただし、1-ドデシルグアニジニウム=アセタート65%以下を含有するものを除く。
19の5 トリブチルアミン及びこれを含有する製剤。
19の6 ナラシン、その塩類及びこれらのいずれかを含有する製剤。ただし、ナラシンとして10%以下を含有するものを除く。
 20 ニコチンを含有する製剤
 21 ニコチン塩類及びこれを含有する製剤
 22 ニッケルカルボニルを含有する製剤
22の2 S,S-ビス(1-メチルプロピル)=O-エチル=ホスホロジチオアート(別名カズサホス)及びこれを含有する製剤。ただし、S,S-ビス(1-メチルプロピル)=O-エチル=ホスホロジチオアート10%以下を含有するものを除く。
 23 砒素化合物及びこれを含有する製剤。ただし、次に掲げるものを除く。

  1. ゲルマニウム、セレン及び砒素から成るガラス状態の物質並びにこれを含有する製剤
  2. 砒化インジウム及びこれを含有する製剤
  3. 砒化ガリウム及びこれを含有する製剤
  4. メタンアルソン酸カルシウム及びこれを含有する製剤
  5. メタンアルソン酸鉄及びこれを含有する製剤
23の2 ヒドラジン
23の3 ブチル=2,3-ジヒドロ-2,2-ジメチルベンゾフラン-7-イル=N,N’-ジメチル-N,N’-チオジカルバマート(別名フラチオカルブ)及びこれを含有する製剤。ただし、ブチル=2,3-ジヒドロ-2,2-ジメチルベンゾフラン-7-イル=N,N’-ジメチル-N,N’-チオジカルバマート5%以下を含有するものを除く。
 24 弗化水素を含有する製剤
24の2 弗化スルフリル及びこれを含有する製剤
24の3 フルオロスルホン酸及びこれを含有する製剤
24の4 1-(4-フルオロフェニル)プロパン-2-アミン、その塩類及びこれらのいずれかを含有する製剤
24の5 7-ブロモ-6-クロロ-3-〔3-〔(2R,3S)-3-ヒドロキシ-2-ピペリジル〕-2-オキソプロピル〕-4(3H)-キナゾリノン、7-ブロモ-6-クロロ-3-〔3-〔(2S,3R)-3-ヒドロキシ-2-ピペリジル〕-2-オキソプロピル〕-4(3H)-キナゾリノン及びこれらの塩類並びにこれらのいずれかを含有する製剤。ただし、スチレン及びジビニルベンゼンの共重合物のスルホン化物の7-ブロモ-6-クロロ-3-〔3-〔(2R,3S)-3-ヒドロキシ-2-ピペリジル〕-2-オキソプロピル〕-4(3H)-キナゾリノンと7-ブロモ-6-クロロ-3-〔3-〔(2S,3R)-3-ヒドロキシ-2-ピペリジル〕-2-オキソプロピル〕-4(3H)-キナゾリノンとのラセミ体とカルシウムとの混合塩(7-ブロモ-6-クロロ-3-〔3-〔(2R,3S)-3-ヒドロキシ-2-ピペリジル〕-2-オキソプロピル〕-4(3H)-キナゾリノンと7-ブロモ-6-クロロ-3-〔3-〔(2S,3R)-3-ヒドロキシ-2-ピペリジル〕-2-オキソプロピル〕-4(3H)-キナゾリノンとのラセミ体として7.2%以下を含有するものに限る。)及びこれを含有する製剤を除く。
24の6 ブロモ酢酸エチル及びこれを含有する製剤
24の7 ヘキサキス(β・β-ジメチルフェネチル)ジスタンノキサン(別名酸化フェンブタスズ)及びこれを含有する製剤
 25 ヘキサクロルエポキシオクタヒドロエンドエンドジメタノナフタリン(別名エンドリン)を含有する製剤
 26 ヘキサクロルヘキサヒドロメタノベンゾジオキサチエピンオキサイドを含有する製剤
26の2 ヘキサクロロシクロペンタジエン及びこれを含有する製剤
26の3 ベンゼンチオール及びこれを含有する製剤
26の4 ホスゲン及びこれを含有する製剤
26の5 メタンスルホニル=クロリド及びこれを含有する製剤
26の6 メチルシクロヘキシル-4-クロルフェニルチオホスフェイト及びこれを含有する製剤。ただし、メチルシクロヘキシル-4-クロルフェニルチオホスフェイト1.5%以下を含有するものを除く。
26の7 メチル-N’,N’-ジメチル-N-〔(メチルカルバモイル)オキシ〕-1-チオオキサムイミデート及びこれを含有する製剤。ただし、メチル-N’,N’-ジメチル-N-〔(メチルカルバモイル)オキシ〕-1-チオオキサムイミデート0.8%以下を含有するものを除く。
26の8 メチルホスホン酸ジクロリド
26の9 S-メチル-N-〔(メチルカルバモイル)-オキシ〕-チオアセトイミデート(別名メトミル)及びこれを含有する製剤。ただし、S-メチル-N-〔(メチルカルバモイル)-オキシ〕-チオアセトイミデート45%以下を含有するものを除く。
26の10 メチルメルカプタン及びこれを含有する製剤
26の11 メチレンビス(1-チオセミカルバジド)及びこれを含有する製剤。ただし、メチレンビス(1-チオセミカルバジド)2%以下を含有するものを除く。
26の12 2-メルカプトエタノール及びこれを含有する製剤。ただし、2-メルカプトエタノール10%以下を含有するものを除く。
 27 モノフルオール酢酸塩類及びこれを含有する製剤
 28 モノフルオール酢酸アミドを含有する製剤
 29 燐化アルミニウムとその分解促進剤とを含有する製剤
 30 燐化水素及びこれを含有する製剤
 31 六弗化タングステン及びこれを含有する製剤

 

お知らせ

2018.01.16| 【Notice】Environmental Health and Safety: Hazardous Waste Management and Safety Standards on Campus

2017.12.13| 薬品・実験廃棄物管理研修会を12/11に開催しました

2017.11.22| 薬品・実験廃棄物管理研修会を12月11日(月)に開催します

2017.11.07| 特定化学物質障害予防規則に係る作業記録簿の作成について(学内専用)

2017.10.19| 平成29年度不要薬品等の廃棄について(申込締切:11月24日)

2017.04.13| ポリ塩化ビフェニル(PCB)廃棄物の保管状況を調査します。

2016.12.15| 平成28年度英語による薬品・実験廃棄物管理研修会を開催しました。

2016.11.07| 平成28年度薬品・実験廃棄物管理研修会を開催しました。

2016.09.26| 平成28年度薬品・実験廃棄物管理研修会を11月1日(火)に開催します。

2016.07.25 | 【お知らせ】化学物質のリスクアセスメントツールを配付しています。

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